廣綠半導體行業廢氣處理
關鍵詞：半導體廢氣處理
半導體工業中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量的有機化合物。在這個過程中，這些有機溶劑大部分揮發為廢氣，這類氣體的排放一般采用吸附法、焚燒法或兩者結合的方法。
行業特點
目前，這類氣體的排放一般采用吸附法、焚燒法或兩者結合的方法。吸附是利用多孔固體吸附劑對混合氣體進行處理，使其中的一種或多種組分能夠吸附在固體表面，達到分離的目的。該吸附劑選擇性高，能分離其它工藝難以分離的混合物，能有效去除（或回收）低濃度有害物質，凈化效率高，設備簡單，操作方便，可實現自動控制。
但固體吸附劑吸附容量小，需要大量吸附劑，設備龐大，吸附后需要再生處理，這是吸附處理的主要缺點。從半導體生產現場揮發出的有機廢氣經就地排氣罩收集后，經管道送至吸附凈化系統。一般用活性炭作吸附劑。由于活性炭是一種非極性吸附劑，其對廢氣中水汽的敏感性不高，價格低廉。焚燒法也廣泛應用于半導體工業的各種有機廢氣處理，有機物通過熱氧化轉化為二氧化碳和水。同時，焚燒也是處理流量和濃度穩定的廢氣的好方法。在熱氧化過程中，有機廢氣被加熱，氣相有機物被氧化。為了節省燃料，通常采用換熱器回收焚燒產生的熱量，對進口燃氣進行預熱。這種方法通常用于處理大流量、低濃度的氣體。由于半導體工業中的廢氣焚燒產生二氧化硅，二氧化硅鈍化催化劑，接觸氧化在半導體工業中應用較少。
一些半導體工廠也使用旋轉濃縮系統來收集有機廢氣，如沸石濃縮輪。由于半導體工藝中有機廢氣排放量大（通常大于11039m3h），濃度低（通常小于25ppmv），采用其它處理技術難以達到滿意的處理效果。沸石濃縮輪采用內有吸附材料的旋轉輪，吸附材料部分暴露在廢氣流中。轉輪吸收廢氣中的揮發性污染物，并用蒸汽或熱將其解吸。解吸氣流中收集了高濃度的揮發物，低濃度和高濃度的氣流可以很好地氧化。旋轉濃縮系統在半導體工業中的一個缺點是對甲醇的親和性差，去除率只有40-60%。
總之，在廢氣處理方面，半導體行業的酸堿廢氣一般采用相應的堿吸收和酸吸收處理。工藝方法非常成熟。只要對相關工藝參數進行適當優化，就能滿足本標準的要求，對有機廢氣的處理也需要引起重視。目前，有機廢氣的處理工藝有吸附、吸附、直接燃燒、催化燃燒、冷凝等，吸附法采用活性炭直接吸附，凈化效果好，但操作成本高；吸附法適用于低溫，中高濃度廢氣；直接燃燒法適用于高濃度、小風量廢氣處理；冷凝法適用于組分相單一、高濃度，對有機廢氣有一定回收價值。對于半導體工業中濃度低、風量大、成分復雜的有機廢氣，吸附法、吸附法、燃燒法和冷凝法不適用，吸附催化燃燒法更適用。目前，省內一些大型半導體企業已采用沸石轉輪進行濃縮燃燒。該方法適用于大風量、低濃度、常溫的有機廢氣處理。凈化效率達90%以上，濃縮比為20:1。運行成本低，設備處理風量大，占地面積小，不產生二次污染，污染物可連續脫附處理。根據企業實際運行情況，有機廢氣進氣濃度大于200mgm3時，處理效率達到95%，小于200mgm3時，處理后濃度控制在20mgm3，可確保廢氣達標排放。
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